Nova Compo C Nanohibrit Üniversal Kompozit
Nova Compo C anterior ve posterior restorasyonlarda kullanılan ışıkla sertleşen radyopak nanohibrit kompozit.
Bileşim
Monomer matriksi farklı dimetakrilatlardan (% 18-22) ve ULS (Ultra Low Syhrinkage) monomerden oluşur. Doldurucular ise ba-glass, yiterbiyum ve prepolimerize doldurucular (%78-82), katalizör ve stabilizatörden oluşmaktadır.
Monomer Teknolojisi
Nova Compo C’nin rezin matriksi yüksek molekül ağırlıklı, hacimce büzülmesi düşük monomerler kullanılarak dizayn edilmiştir. Bu rezin matriks yüksek molekül ağırlıklı monomerlerden oluştuğu için daha az büzülme, daha az deformasyon gösterir ve fleksibl bir yapıya sahip olur. Ayrıca bu monomerler daha hidrofobik yapıya sahip oldukları için su emilimi de minimize edilmiştir. Nova Compo C TEGDMA gibi seyreltici monomerleri çok az miktarda içermektedir. Seyreltici monomerler düşük molekül ağırlığı ve yüksek çapraz bağ kabiliyetine sahiptir bu yüzden kompozitin elastik modülünün ve sertliğinin yüksek olmasına neden olurlar. Yüksek elastik modülüne sahip kompozitler daha kırılgan olur ve yüksek stres olan bölgelerde stresi tolere edemezler. Nova Compo C’nin elastik modülü optimize edilmiştir
Doldurucu Teknolojisi
Nova Compo C transparanlık, dayanıklılık ve radyopasitesinin optimize edilmesi için farklı tip, boyut ve miktarlarda doldurucular içermektedir.
Yüksek yoğunluğa sahip radyopak prepolimerize doldurucular
0.7 µ ba-glass
0.4 µ ba-glass
Nano doldurucular
Prepolimerize doldurucular düşük hacimce büzülme ve büzülme stresi, el aletlerine yapışmama ve kolay şekillendirme gibi avantajlar sağlar. Yüksek doldurucu içeren bu prepolimerize doldurucular düşük doldurucu içeren prepolimerize dolduruculardan daha fazla aşınma direnci sağlar. Nanohibrit kompozit Nova Compo C’nin içerdiği prepolimerize doldurucuların arasındaki boşluklar nano dolgular ve farklı boyutlardaki ba-glass dolgular tarafından doldurulmuştur. Nano doldurucular ve 0.4 µ ba-glass doldurucular yüksek derecede parlatılabilirlik, yüksek aşınma direnci, yüzey sertliği ve parlaklık sağlar. Nova Compo C gün ışığından etkilenmeden yeterli çalışma zamanı sunar. Monomerler ve doldurucuların refraktif indeksleri bukalemun efekti için en uygun şekilde optimize edilmiştir. Doğal diş yapısına benzer ışık geçirgenliği ve saçılması için (daha iyi bir bukalemun efekti) farklı optik özelliklere sahip doldurucular seçilmiştir.
ULS MONOMER
ULS® monomer yüksek molekül ağırlığı ve düşük C=C çift bağı içerir. Fleksibilitesi yüksek bir monomerdir. Bu sayede polimerizasyon büzülmesinin ve büzülme stresinin düşük olmasını sağlar.
ULS® monomer geleneksel UDMA, Bis-GMA gibi monomerlerden daha yüksek derecede monomer - polimer çevrimi gösterir, atık monomer yani polimerize olmadan kalan monomer miktarını azaltır. Daha biyouyumlu restorasyonlar yapılmasını sağlar.
ULS® monomeri yüksek % uzama (elongation) ve tokluk (toughness) özelliğine sahiptir bu sayede durabilitesi yüksek restorasyonlar yapılabilir. Yüksek stres bölgelerinde kompozit bir miktar esneme ve uzama göstererek uygulanan yükleri özellikle kompozit-diş ara yüz bağlantısında tolere edebilir.
ULS® Monomerinin Kompozit Yapıya Etkisi
ULS®monomerin bir kompozit içerisine ilave madde olarak kullanımını değerlendirmek için, BisGMA & TEGDMA’nın ağırlıkça %70 & %30 oranında bir karışımına ağırlıkça %10 ve ağırlıkça %25 ULS® monomeri ilave edilmiştir. Bu test için kamforikon (CQ, ağırlıkça %0.3) ve Etil 4-Dimetilaminobenzoat (EDAB, ağırlıkça %0.8) fotobaşlatıcı sistemi kullanılmıştır. Numuneler, ISO 4049 standardına göre 25x2x2 mm boyutlarında hazırlanmıştır. Numuneler universal test cihazında 1 mm/dk hızla test edilmiştir.
ULS® Monomer Polimerizasyon Derecesi
Bu çalışmanın amacı ULS® monomer ve BisGMA / TEGDMA 70/30 oranın da hazırlanmış rezin matriksin ortalama polimerizasyon derecesini belirlemektir. Çalışmada aynı kürleme protokolü ve fotobaşlatıcı sistem CQ % 0.3 wt (Sigma Aldrich), etil 4-dimetilaminobenzoat (EDAB,% 0.8 wt, (Sigma Aldrich) kullanıldı. Numunelerin hazırlanması için 5 mm çapında 2 mm yüksekliğinde teflon kalıplar kullanıldı. Hazırlanan numuneler 20 saniye boyunca polimerize edildi. Polimerizasyon derecesinin belirlenmesi için ATR metodu kullanıldı. [1, 2].
Sonuç olarak ULS® monomer BisGMA /TEGDMA 70/30 karışımından % 32 oranında daha iyi polimerize olmaktadır.
ULS® Monomerinin UDMA ve BIS-GMA ile Karşılaştırılması
Sonuç olarak ULS® monomerinin % 25 civarında eklendiği kompozitler de mekanik özellikler ve elastik modül değişmemesine karşın büzülme ve büzülme stresinin ortalama değeri düşecektir ve polimerize olma derecesi artacaktır. ULS® monomerinin yüksek uzama (elongation) ve dayanıklılık (toughness) değeri sayesinde yüksek stres bölgelerinde bile kompozit bir miktar esneme ve uzama göstererek uygulanan yükleri özellikle kompozit-diş ara yüz bağlantısında tolere edebilecektir. Bu sayede ULS® monomeri ile uzun ömürlü restorasyonlar elde edilebilir.
Avantajlar
•Uzun dönem durabilite
•Muhteşem handling ve kolay parlatılabilirlik
•Kullanılan el aletlerine yapışmama özelliği
•Düşük polimerizasyon büzülmesi ve büzülme stresi
•Yüksek radyopaklık
•Mükemmel aşınma direnci ve yüksek mekanik özellikler
•Tek katman ve çok katman olarak kullanılabilir
•Üstün estetik görünümü ve bukalemun efekti
•Geniş renk seçeneği
•ULS ® Monomeri
Endikasyonlar
•Süt dişlerinin restarosyonlarında
•Posterior dişlerin sınıf I ve sınıf II restorasyonlarında
•Anterior dişlerin sınıf III ve sınıf IV restorasyonlarında
•Sınıf V kavite ve servikal (boyun) aşınma/erozyon restorasyonlarında
•Azı dişlerinde ve küçük azı dişlerinde fissür örtücü olarak
•Sallanan dişlerin bloke edilmesi
Paket İçeriği:
8 x 4 g Şırınga / 1 x 5 ml Self Etch 7. Jenerasyon All In One MDP İçeren Asitsiz Bonding / 2 g Nova Compo HF Akıcı Kompozit / 50 x Bonding Uygulama Fırça Ucu / 10 x Açılı Siyah Uygulama Uçları / 25 x Çiftli Bonding Uygulama Platformu
Imicryl Nova Compo C Universal Kompozit Seti
- Marka: Imicryl
- Stok Durumu: Stokta var
Dikkat: Ürün fiyatlarını görmek için oturum açın ya da kayıt olunuz!
Nova Compo C Nanohibrit Üniversal Kompozit
Nova Compo C anterior ve posterior restorasyonlarda kullanılan ışıkla sertleşen radyopak nanohibrit kompozit.
Bileşim
Monomer matriksi farklı dimetakrilatlardan (% 18-22) ve ULS (Ultra Low Syhrinkage) monomerden oluşur. Doldurucular ise ba-glass, yiterbiyum ve prepolimerize doldurucular (%78-82), katalizör ve stabilizatörden oluşmaktadır.
Monomer Teknolojisi
Nova Compo C’nin rezin matriksi yüksek molekül ağırlıklı, hacimce büzülmesi düşük monomerler kullanılarak dizayn edilmiştir. Bu rezin matriks yüksek molekül ağırlıklı monomerlerden oluştuğu için daha az büzülme, daha az deformasyon gösterir ve fleksibl bir yapıya sahip olur. Ayrıca bu monomerler daha hidrofobik yapıya sahip oldukları için su emilimi de minimize edilmiştir. Nova Compo C TEGDMA gibi seyreltici monomerleri çok az miktarda içermektedir. Seyreltici monomerler düşük molekül ağırlığı ve yüksek çapraz bağ kabiliyetine sahiptir bu yüzden kompozitin elastik modülünün ve sertliğinin yüksek olmasına neden olurlar. Yüksek elastik modülüne sahip kompozitler daha kırılgan olur ve yüksek stres olan bölgelerde stresi tolere edemezler. Nova Compo C’nin elastik modülü optimize edilmiştir
Doldurucu Teknolojisi
Nova Compo C transparanlık, dayanıklılık ve radyopasitesinin optimize edilmesi için farklı tip, boyut ve miktarlarda doldurucular içermektedir.
Yüksek yoğunluğa sahip radyopak prepolimerize doldurucular
0.7 µ ba-glass
0.4 µ ba-glass
Nano doldurucular
Prepolimerize doldurucular düşük hacimce büzülme ve büzülme stresi, el aletlerine yapışmama ve kolay şekillendirme gibi avantajlar sağlar. Yüksek doldurucu içeren bu prepolimerize doldurucular düşük doldurucu içeren prepolimerize dolduruculardan daha fazla aşınma direnci sağlar. Nanohibrit kompozit Nova Compo C’nin içerdiği prepolimerize doldurucuların arasındaki boşluklar nano dolgular ve farklı boyutlardaki ba-glass dolgular tarafından doldurulmuştur. Nano doldurucular ve 0.4 µ ba-glass doldurucular yüksek derecede parlatılabilirlik, yüksek aşınma direnci, yüzey sertliği ve parlaklık sağlar. Nova Compo C gün ışığından etkilenmeden yeterli çalışma zamanı sunar. Monomerler ve doldurucuların refraktif indeksleri bukalemun efekti için en uygun şekilde optimize edilmiştir. Doğal diş yapısına benzer ışık geçirgenliği ve saçılması için (daha iyi bir bukalemun efekti) farklı optik özelliklere sahip doldurucular seçilmiştir.
ULS MONOMER
ULS® monomer yüksek molekül ağırlığı ve düşük C=C çift bağı içerir. Fleksibilitesi yüksek bir monomerdir. Bu sayede polimerizasyon büzülmesinin ve büzülme stresinin düşük olmasını sağlar.
ULS® monomer geleneksel UDMA, Bis-GMA gibi monomerlerden daha yüksek derecede monomer - polimer çevrimi gösterir, atık monomer yani polimerize olmadan kalan monomer miktarını azaltır. Daha biyouyumlu restorasyonlar yapılmasını sağlar.
ULS® monomeri yüksek % uzama (elongation) ve tokluk (toughness) özelliğine sahiptir bu sayede durabilitesi yüksek restorasyonlar yapılabilir. Yüksek stres bölgelerinde kompozit bir miktar esneme ve uzama göstererek uygulanan yükleri özellikle kompozit-diş ara yüz bağlantısında tolere edebilir.
ULS® Monomerinin Kompozit Yapıya Etkisi
ULS®monomerin bir kompozit içerisine ilave madde olarak kullanımını değerlendirmek için, BisGMA & TEGDMA’nın ağırlıkça %70 & %30 oranında bir karışımına ağırlıkça %10 ve ağırlıkça %25 ULS® monomeri ilave edilmiştir. Bu test için kamforikon (CQ, ağırlıkça %0.3) ve Etil 4-Dimetilaminobenzoat (EDAB, ağırlıkça %0.8) fotobaşlatıcı sistemi kullanılmıştır. Numuneler, ISO 4049 standardına göre 25x2x2 mm boyutlarında hazırlanmıştır. Numuneler universal test cihazında 1 mm/dk hızla test edilmiştir.
ULS® Monomer Polimerizasyon Derecesi
Bu çalışmanın amacı ULS® monomer ve BisGMA / TEGDMA 70/30 oranın da hazırlanmış rezin matriksin ortalama polimerizasyon derecesini belirlemektir. Çalışmada aynı kürleme protokolü ve fotobaşlatıcı sistem CQ % 0.3 wt (Sigma Aldrich), etil 4-dimetilaminobenzoat (EDAB,% 0.8 wt, (Sigma Aldrich) kullanıldı. Numunelerin hazırlanması için 5 mm çapında 2 mm yüksekliğinde teflon kalıplar kullanıldı. Hazırlanan numuneler 20 saniye boyunca polimerize edildi. Polimerizasyon derecesinin belirlenmesi için ATR metodu kullanıldı. [1, 2].
Sonuç olarak ULS® monomer BisGMA /TEGDMA 70/30 karışımından % 32 oranında daha iyi polimerize olmaktadır.
ULS® Monomerinin UDMA ve BIS-GMA ile Karşılaştırılması
Sonuç olarak ULS® monomerinin % 25 civarında eklendiği kompozitler de mekanik özellikler ve elastik modül değişmemesine karşın büzülme ve büzülme stresinin ortalama değeri düşecektir ve polimerize olma derecesi artacaktır. ULS® monomerinin yüksek uzama (elongation) ve dayanıklılık (toughness) değeri sayesinde yüksek stres bölgelerinde bile kompozit bir miktar esneme ve uzama göstererek uygulanan yükleri özellikle kompozit-diş ara yüz bağlantısında tolere edebilecektir. Bu sayede ULS® monomeri ile uzun ömürlü restorasyonlar elde edilebilir.
Avantajlar
•Uzun dönem durabilite
•Muhteşem handling ve kolay parlatılabilirlik
•Kullanılan el aletlerine yapışmama özelliği
•Düşük polimerizasyon büzülmesi ve büzülme stresi
•Yüksek radyopaklık
•Mükemmel aşınma direnci ve yüksek mekanik özellikler
•Tek katman ve çok katman olarak kullanılabilir
•Üstün estetik görünümü ve bukalemun efekti
•Geniş renk seçeneği
•ULS ® Monomeri
Endikasyonlar
•Süt dişlerinin restarosyonlarında
•Posterior dişlerin sınıf I ve sınıf II restorasyonlarında
•Anterior dişlerin sınıf III ve sınıf IV restorasyonlarında
•Sınıf V kavite ve servikal (boyun) aşınma/erozyon restorasyonlarında
•Azı dişlerinde ve küçük azı dişlerinde fissür örtücü olarak
•Sallanan dişlerin bloke edilmesi
Paket İçeriği:
8 x 4 g Şırınga / 1 x 5 ml Self Etch 7. Jenerasyon All In One MDP İçeren Asitsiz Bonding / 2 g Nova Compo HF Akıcı Kompozit / 50 x Bonding Uygulama Fırça Ucu / 10 x Açılı Siyah Uygulama Uçları / 25 x Çiftli Bonding Uygulama Platformu
